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納米氧化鋅剪切研磨機是專用于氧化鋅物料納米級加工的設(shè)備,通過高速剪切、研磨與分散作用,將氧化鋅顆粒細化至納米尺度,同時保證顆粒均勻性。它廣泛應(yīng)用于橡膠、涂料、化妝品等領(lǐng)域,能提升產(chǎn)品性能。設(shè)備具備細化效率高、粒徑可控、運行穩(wěn)定的特點,適配工業(yè)化連續(xù)生產(chǎn)需求。
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納米氧化鋅剪切研磨機
納米氧化鋅的分散難點:納米氧化鋅分散到水中或者溶劑當(dāng)中,容易出現(xiàn)抱團的現(xiàn)象,導(dǎo)致物料粒徑變大,分散效果不佳,產(chǎn)品改性不充分。如果使用普通的分散設(shè)備,很難將納米氧化鋅分散均勻,會出現(xiàn)團聚的現(xiàn)象,團聚體難以打開,而如果SID研發(fā)的分散設(shè)備,研磨分散機的話,先研磨后分散機,解決團聚問題,可達納米氧化鋅還原至納米級。SID研磨式分散機,是由 分散機結(jié)合而成的設(shè)備,主要是為了解決納米級物料的分散,如:納米,納米氧化鋁,石墨烯,碳納米管等納米級物料的分散。
GMD2000系列研磨分散設(shè)備是SID公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品,該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機進行改裝,我們將三級變跟為一級,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過膠體磨細化物料,然后再經(jīng)過乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)GMD2000系列超高速納米氧化鋅研磨分散機的特點:
① 線速度很高,剪切間隙非常小,當(dāng)物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨
② 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。
③ 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離
④ 在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
⑤ 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
納米氧化鋅剪切研磨機設(shè)備選型表:
研磨分散機
流量*
輸出
線速度
功率
入口/出口連接
類型
l/h
rpm
m/s
kW
GMSD2000/4
400
14,000
44
4
DN25/DN15
GMSD2000/5
1000
10,050
11
DN40/DN32
GMSD2000/10
3000
7,500
22
DN80/DN65
GMSD2000/20
8000
4,900
45
GMSD2000/30
20000
2,850
90
DN150/DN125
GMSD2000/50
60000
1,100
110
DN200/DN150
*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,同時流量可以被調(diào)節(jié)到最大允許量的 10%。